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层压机 / 薄膜到片材 生成矩阵 型号 SH-460 2010 年代 ? 最大尺寸 455 毫米 细节 单面或双面覆膜 产量 1.6 米/分钟 细节包括 1 卷缎面拉曼蒂材料 可直接使ç”
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产品编号 : 7403 类型:迷你 制片人: Matrix 创建时间:2019年 参数: 机柜尺寸:860 x 581 x 800 mm 设备: 应急电源 扫描å™
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Key data: 400 mm, 3200 mm
螺纹磨床,矩阵 – 70 制造:矩阵 型号: 70 中心距: 4000 mm 最大螺纹长度: 3200 mm 工件最大直径:394 mm 508毫米磨石的最大直径:150毫米 主轴中工件的最大直径:508 mm 其他信息: 机器状况良好,所有零件和附件齐全ã€
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尺寸: 550 mm 设备: 最大片材宽度: 550 mm 最大速度: 10 m/min 最大薄膜宽度: 500 mm 层压: 单面 压力: 机械式,可调 材料: 135 g/qm2 起 箔芯直径: 76 mmï¼
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矩阵剥线钳 inchEinch 145 System One 退料板 Matrix plasma Asher 等离子体除渣半导体设备应用 Photoresist Discycling (光刻胶剥离) Matrix System One Matrix System One 剥离器等离子体 Asher 等离子体除渣半导体设备代表了单晶圆光刻胶去除的è ¡Œ业标准,也是非常成功的 System One 系列的支柱。Matrix System One Stripper 等离子体 Asher 等离子体除渣半导体设备是与许多世界领先的 IC 生产商合作开发的,旨在实现最佳性能和拥有成本。 找åˆ
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Matrix 105 系统 System One 退料板 Matrix 105 plasma Asher 等离子除渣半导体设备应用 Photoresist Discycling (光刻胶剥离) Matrix System One Matrix System One 剥离器等离子体 Asher 等离子体除渣半导体设备代表了单晶圆光刻胶去除的è ¡Œ业标准,也是非常成功的 System One 系列的支柱。Matrix System One Stripper 等离子体 Asher 等离子体除渣半导体设备是与许多世界领先的 IC 生产商合作开发的,旨在实现最佳性能和拥有成本。 找åˆ